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ZA3000系列原子吸收分光光度計(jì)，秉承偏振塞曼法和雙檢測(cè)器實(shí)時(shí)校正, 新增日立多項(xiàng)技術(shù)，數(shù)據(jù)結(jié)果優(yōu)異、穩(wěn)定可靠。
開機(jī)即可測(cè)，基線更穩(wěn)定。
通過偏振塞曼背景校正可獲得高可靠性的數(shù)據(jù)。
兩個(gè)檢測(cè)器同時(shí)檢測(cè)樣品光束和參比光束，完全實(shí)時(shí)的背景校正技術(shù)獲得可靠的結(jié)果。并且沒有光軸的機(jī)械切換，重復(fù)性和穩(wěn)定性更高。
石墨爐分析時(shí)使用雙孔石墨管可有效提高靈敏度。雙孔石墨管使樣品和石墨管的接觸面積更大，提高了熱傳導(dǎo)效率，干燥過程的保持時(shí)間縮短，在同樣的分析時(shí)間里就可以使用更大的樣品體積進(jìn)行檢測(cè)，從而獲得更高的靈敏度，更低的檢出量。
可提高檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。自動(dòng)檢測(cè)到暴沸，會(huì)在測(cè)定結(jié)果的數(shù)值后面標(biāo)記“P”。據(jù)此，可以確認(rèn)是否發(fā)生暴沸，并及時(shí)修正升溫程序。
可有效減少樣品殘留，提高檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性和重現(xiàn)性。
兩種自動(dòng)除殘方式：
“加熱”模式，指定最大加熱時(shí)間和冷卻時(shí)間；
“溫度程序”模式，儀器內(nèi)置除殘溫度程序，最高除殘溫度是3000℃。
用自動(dòng)進(jìn)樣針吸入第一種試劑后，隔著空氣吸入下一種試劑，循環(huán)往復(fù)后將全部樣品一次注入C 型石墨管。
可有效減少試劑污染；節(jié)省40％進(jìn)樣時(shí)間；獲得相同的檢測(cè)結(jié)果，所需的基體改進(jìn)劑的用量或濃度更低。
即使對(duì)土壤分解液這類含大量鹽分的基質(zhì)復(fù)雜樣品，也可不受共存物的背景吸收干擾，測(cè)定精度更高，這得益于日立ZA3000采用偏振塞曼校正法扣除背景。
參考標(biāo)準(zhǔn)：中國(guó)環(huán)境保護(hù)標(biāo)準(zhǔn) HJ 491-2019.土壤和沉積物銅、鋅、鉛、鎳、鉻的測(cè)定火焰原子吸收分光光度法.
水中鈹?shù)暮繕O低，在測(cè)定時(shí)易受水中堿金屬等的干擾，影響測(cè)定準(zhǔn)確性。日立ZA3000采用偏振塞曼背景校正法，配合一體化平臺(tái)石墨管，可輕松消除共存物的干擾，對(duì)水中的鈹實(shí)現(xiàn)高精度分析。
參考標(biāo)準(zhǔn)：HJ/T 59-2000 水質(zhì)鈹?shù)臏y(cè)定.石墨爐原子吸收分光光度法.
| 型號(hào)/ 項(xiàng)目 |
ZA3000 | ZA3300 | ZA3700 | |
|---|---|---|---|---|
| 分析方法 | 火焰+石墨爐 | 火焰 | 石墨爐 | |
| 光學(xué)系統(tǒng) | 實(shí)時(shí)雙光束法 | |||
| 背景校正 | 偏振塞曼法 | |||
| 光源 | 8燈(旋轉(zhuǎn)燈架) | |||
| 分光系統(tǒng) | 類型/ 衍射光柵 | 澤尼爾- 塔那型1800線/mm，閃耀波長(zhǎng)200nm | ||
| 波長(zhǎng)范圍，設(shè)置 | 190-900 nm，自動(dòng)尋峰設(shè)置 | |||
| 線色散率倒數(shù) | 1.3 nm/mm | |||
| 光譜帶寬 | 4檔（0.2, 0.4, 1.3, 2.6 nm） | |||
| 檢測(cè)器 | 光電倍増管（A）× 2 個(gè)，樣品光束和背景光束同時(shí)檢測(cè) | |||
| 火焰部分 | 燃燒頭 | 預(yù)混和魚尾型燃燒頭 | —— | |
| 霧化器 | 耐腐蝕的高效霧化器 | |||
| 點(diǎn)火方式 | 自動(dòng)點(diǎn)火 | |||
| 安全檢查功能 | 光學(xué)火焰監(jiān)測(cè)；火焰?zhèn)鞲衅麇e(cuò)誤檢測(cè)；燃燒/ 輔助氣壓監(jiān)測(cè); 廢液液面檢測(cè); 冷卻水流量檢測(cè)；出現(xiàn)故障時(shí)助燃器緩沖罐具有防止回火功能; 氧化亞氮安全系統(tǒng) | |||
| 石墨爐部分 | 溫度控制范圍 | 50-2800℃，自動(dòng)清除溫度3000℃ | —— | 50-2800℃，自動(dòng)清除溫度3000℃ |
| 溫度控制方式 | 光學(xué)溫度控制和電流加熱控制 | 光學(xué)溫度控制和電流加熱控制 | ||
| 樣品注入方式 | 不用位移的連續(xù)注入法和雙孔注入法 | 不用位移的連續(xù)注入法和雙孔注入法 | ||
| 氣體流量控制 | 保護(hù)氣:Ar 氣，3 L/min 載氣:Ar 氣 0、10、30、200 mL/min.（ 4 檔自動(dòng)可調(diào)） |
保護(hù)氣:Ar 氣，3 L/min 載氣:Ar 氣 0、10、30、200 mL/min.（ 4 檔自動(dòng)可調(diào)） |
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| 安全檢測(cè)功能 | Ar 氣壓力檢測(cè) 冷卻水流量檢測(cè) 石墨爐溫度檢測(cè) |
Ar 氣壓力檢測(cè) 冷卻水流量檢測(cè) 石墨爐溫度檢測(cè) |
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*所有分析法都采用偏振塞曼校正。
*可提供石墨管CⅡ（與石墨管HR相比，成本更低，靈敏度更高）和常規(guī)熱解型石墨管HR（7J0-8880）
